我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构
14日夜，国科构国际顶级学术期刊《自然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的首次重大突破。南京大学张勇、纳米肖敏、雕刻祝世宁领衔的维结科研团队，发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，国科构将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的首次晶体内部，通过控制激光移动的纳米方向，在晶体内部形成有效电场，雕刻实现三维结构的维结直写和擦除。这一新技术，国科构突破了传统飞秒激光的首次光衍射极限，把光雕刻铌酸锂三维结构的纳米尺寸，从传统的雕刻1微米量级（相当于头发丝的五十分之一），首次缩小到纳米级，维结达到30纳米，大大提高了加工精度。 这一重大发明，未来或可开辟光电芯片制造新赛道，有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备，在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。 （总台央视记者 周培培）
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